洁净度100级、氧浓度低于20ppm的气氛炉,主要应用于固化半导体晶圆等。
特点
● 最高工作温度360℃和500℃、洁净度100级、氧浓度低于20ppm,主要应用于固化半导体晶圆(光刻胶PI、PBO固化)、玻璃基板烘烤、高精度退火处理等。
● 采用耐热高性能高效过滤器,箱内洁净度始终保持在100级,可在洁净的环境下进行高温烘烤。
● 高气密性的压力箱构造,氧浓度到达时间短,N2消耗量极低。
● 通过磁密封保持高气密性,并采用水冷机构保护密封部件免受热量影响。
● 可实现快速升温和降温,升降温速率可调节。
● 标准装备有废液回收装置,对气体进行冷却回收。
● 液晶触摸屏操作,自动/手动两种运行模式。
安全性
● 拥有门检测开关、温度过升防止器、氧浓度异常、氮气压力检测、氮气流量检测、冷却水流量检测、漏水传感器、过电流漏电保护开关等安装装置。
规格:
型号 | DTN430C | DTN630C | DTN450C | DTN650C |
方式 | 氮气置换+ 强制送风循环 |
性能 | 使用温度范围 | 室温+50~360℃ | 室温+50~500℃ |
温度调节精度 | ±0.5℃(at360℃) | ±1.0℃(at500℃) |
温度分布精度 | ±5.0℃(at360℃) | ±8.0℃(at500℃) |
最高温度到达时间 | 约80分钟 | 约110分钟 |
氧浓度 | 20ppm 以下 |
氧浓度到达时间 | ≤ 20分(250L/min 氮气) | ≤ 25分(250L/min 氮气) | ≤ 20分(250L/min 氮气) | ≤ 25分(250L/min 氮气) |
洁净度 | 温度恒定时100级 |
构成 | 内装 | 不锈钢板 |
外装 | 冷轧钢板,表面耐药品性涂装 |
断热材 | 硅酸铝棉 |
加热方式 | 不锈钢加热管 |
加热功率 | 主加热器 | 6.75KW | 9KW | 9.5KW | 14.2KW |
N2预热 | 1KW |
冷却机构 | 不锈钢冷却水换热器 |
HEPA过滤器 | 集尘效率:0.3um粒子99.97%以上 |
控制器 | 温度控制方式 | PID控制 |
温度控制器 | 液晶触摸屏+PLC |
运行功能 | 手动定值运行、自动程序运行 |
程序模式 | 程序运行9个,每个程序可设置9步(可扩展) |
附加功能 | 操作员等级认证 |
加热器回路控制 | SSR驱动 |
传感器 | K型热电偶(温度控制及过升防止器) |
安全装置 | 门检测开关、过升防止器、氧浓度异常、N2 预热温度过升、水压低检测、N2 压力低检测、冷却水流量检测、N2 流量检测、 风机过载检测、过电流漏电保护开关等 |
规格 | 内尺寸(宽×深×高mm) | 450×450×450 | 660×500×660 | 450×450×450 | 660×500×660 |
外形尺寸(宽×深×高mm) | 1090×950×1540 | 1300×1000×1750 | 1240×1010×1750 | 1450×1060×1960 |
内容积 | 91L | 216L | 91L | 216L |
棚板层数/层间距 | 12层/30mm | 19层/30mm | 12层/30mm | 19层/30mm |
排气口 | 40KF法兰 |
氮气入口 | Rc1/2 |
冷却水入口 | Rc3/4 |
热水出口 | Rc3/4,2个 |
电源(50/60Hz)额定电流 | 3相AC380V 16A | 3相AC380V 19A | 3相AC380V 20A | 3相AC380V 27A |
重量 | 约900kg | 约1100kg | 约900kg | 约1100kg |
选购品 | 棚板、真空泵、温度记录仪、组合警示灯(待机/ 运行/ 故障)、以太网通信功能 |