有关等离子清洗中常用气体你知道多少

　　等离子清洗机在清洗过程中配合着不同的气体，其清洗效果也是截然不同的。

　　最多使用的气体之一就是惰性气体氩气(Ar)，真空腔清洗过程中配合氩气(Ar)往往可以有效得去除表面纳米级污染物。

　　如果想增强腐蚀效果，就请通入氧气(O2)。通过配合氧气(O2)在真空腔清洗，可有效的去除有机污染物，比如光刻胶等。

　　还有一些比较难去除的氧化物可利用氢气(H2)配合清洗，一般会选用氢氮混合气体(氢5%氮95%)。

　　最常用的气体是氮气(N2)，生产成本低。这种气体主要是配合在线式等离子对材料表面活化和改性的应用。当然真空环境下也可以使用。氮气(N2)是提高材料表面侵润性的首选。

　　还有一些特殊气体类似于四氟化碳(CF4)，六氟化硫(SF6)等，蚀刻和去除有机物的效果会更加显着。但这些气体的使用前提是要有绝对耐腐蚀气路和腔体结构，另外自己要戴好防护罩和手套才能工作。